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重慶凈化車間的鋁材在表面上的溫濕會不會有什么影響
來源：qxkjw.com 發(fā)布時(shí)間：2019年01月14日
隨著氛圍干凈度請求的進(jìn)步，工藝對溫濕度的請求也越來越嚴(yán)，那么干凈室內(nèi)溫室渡過高或者過低，有什么影響呢？
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加工精度越來越精細(xì)，對溫度堅(jiān)定范圍的請求就越來越小。例如在大范圍集成電路消費(fèi)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板質(zhì)料的玻璃與硅片的熱收縮系數(shù)的差請求越來越小。
上面就以這個(gè)例子來說：
直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就惹起了0.24um線性收縮，以是必需有±0.1度的恒溫，同時(shí)請求濕度值普通較低，由于人出汗以后，對產(chǎn)物將有凈化，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超越25度，濕渡過高發(fā)生的題目更多。
絕對濕度超越55%時(shí)，冷卻水管壁上會結(jié)露，假如發(fā)作在精細(xì)安裝或電路中，就會惹起種種變亂。絕對濕度在50%時(shí)易生銹。
小龍
此外，濕度太高時(shí)將經(jīng)過氛圍中的水分子把硅片外表粘著的塵土化學(xué)吸附在外表難以肅清。絕對濕度越高，粘附的越難去掉，但當(dāng)絕對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于外表，同時(shí)大批半導(dǎo)體器件容易發(fā)作擊穿。
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加工精度越來越精細(xì)，對溫度堅(jiān)定范圍的請求就越來越小。例如在大范圍集成電路消費(fèi)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板質(zhì)料的玻璃與硅片的熱收縮系數(shù)的差請求越來越小。
上面就以這個(gè)例子來說：
直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就惹起了0.24um線性收縮，以是必需有±0.1度的恒溫，同時(shí)請求濕度值普通較低，由于人出汗以后，對產(chǎn)物將有凈化，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超越25度，濕渡過高發(fā)生的題目更多。
絕對濕度超越55%時(shí)，冷卻水管壁上會結(jié)露，假如發(fā)作在精細(xì)安裝或電路中，就會惹起種種變亂。絕對濕度在50%時(shí)易生銹。
小龍
此外，濕度太高時(shí)將經(jīng)過氛圍中的水分子把硅片外表粘著的塵土化學(xué)吸附在外表難以肅清。絕對濕度越高，粘附的越難去掉，但當(dāng)絕對濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于外表，同時(shí)大批半導(dǎo)體器件容易發(fā)作擊穿。
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